单晶硅电池片工艺流程

一、硅单晶种子生长

单晶硅电池片的生产过程首先要从硅单晶种子的生长开始。种子生长是单晶硅电池片制备的第 一步,其影响着后续制备工艺的质量和成本。种子生长的主要步骤包括:

1.半导体级多晶硅材料切割成硅坯,加载熔炉中。

2.将硅坯在高温下加热熔化,形成液态硅。

3.利用陶瓷电阻加热,对硅液进行恒温保持,形成一个稳定的液面。

4.将含有硅原子的气体分子沉积在硅液面上,形成固态晶体。

5.在特殊的条件下,控制晶体逐渐生长并达到预定规格尺寸。


二、单晶硅锭切割

种子生长好的单晶硅锭需要被切割成适当的尺寸,以用于后续的加工。单晶硅锭的切割需要通过钻孔、切割和抛光等工艺来完成。切割后得到的单晶硅板具有极高的纯度和完美的结晶结构。


三、单晶硅太阳能电池制备

经过切割和抛光后的单晶硅板可以用于单晶硅太阳能电池片的制备。单晶硅太阳能电池以单晶硅为光电转化器材料,其制备工艺包括:

1.前面电极制备:将太阳能电池片放入酸性溶液中进行去除氧化层,然后在表面刻蚀形成导电网格。

2.沉积反射层:通过物理气相沉积(PVD)或化学气相沉积(CVD)在单晶硅表面形成反射膜,防止光线在透过电池片之前反射或散射。

3.背面电极制备:将太阳能电池片蕞后一步放入酸性溶液中进行去除氧化层,然后在表面刻蚀形成背面电极。

4.阳极氧化:在太阳能电池片表面的反射膜上沉积一层氧化铝,增加其耐腐蚀性和光学性能。

5.太阳能电池测试和分类:对太阳能电池片进行测试,以保证其光电转换效率和品质。


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